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忠南大、チタンを利用した新たな概念のグラフェン合成技術を開発

転写工程を経ずに低い温度で大面積の合成が可能


韓国の研究チームがチタンを利用した新たな概念の高品質大面積グラフェン合成技術を開発した。

韓国研究財団(チョ・ムジェ理事長)は忠南大学校のユン・スンギル教授研究チームがグラフェンの加工に必須だった転写工程を省略しチタンを利用した新たな概念のグラフェン合成技術を開発したと2月19日に発表した。

夢のナノ物質と呼ばれるグラフェンは電気伝導度、熱伝導性、機械的強度がすぐれ柔軟性と透明性も備えている物質。グラフェンは二次電池やディスプレイなどに応用されており世界的に活発に研究が行われている。

しかし一般的な化学蒸着法でグラフェンを合成する際には必ず他の基板の上に移す転写工程が必要となる。転写工程の過程では内部欠陥をはじめグラフェン結晶面の領域の大きさと境界面の制御の難しさ、基板との接着の問題、グラフェン表面に発生する皺による特性低下などの問題点があった。

研究チームはチタンがグラフェンを構成する炭素と同一の結晶構造をもち炭素との結合力も優れている点に注目した。チタンでグラフェンの皺を除去する研究成果を活用して10nm(ナノメートル)の厚さのチタン層の上にグラフェンを合成する技術を開発した。

研究に当ったユン・スンギル教授は「既存のグラフェンの短所を補完し新たな概念の無欠点大面積グラフェンの製造技術を開発した。グラフェンを透明で柔軟な電子素子に応用できるだけでなく既存の金、銅などの金属電極を代替するのに寄与するだろう」と述べた。

研究成果はナノ分野の国際学術誌『ACS Nano』に2月1日付で掲載された。







[2018-02-21]

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